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雙工位磁力研磨機(jī)所需的時(shí)間通常取決于兩個(gè)部分：一是工件制造工藝和半成品的表面質(zhì)量；二是拋光所要達(dá)到的光亮度要求。當(dāng)然磁力拋光時(shí)間還受槽中拋光針的含量和研磨液的影響。通常拋光時(shí)間不超過(guò)20分鐘，拋光時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，既造成材料和拋光液的浪費(fèi)，還有可能增加缺陷的出現(xiàn)。拋光針過(guò)少，有可能產(chǎn)生拋光效果差，效果不均勻等缺陷。對(duì)于新配制的化拋光針，應(yīng)該注意不宜太多；若拋光針的含量達(dá)到一定平衡水平，拋光效果會(huì)更好些。一旦工件超過(guò)設(shè)定的時(shí)間，仍不能達(dá)到滿意的光亮度，通常則需要調(diào)整拋光針或調(diào)整與研磨液濃度直接相關(guān)的配比
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